真空室
TE 能够提供您所需的可靠元件，帮助防止污染物进入系统并减少泄漏。
提供密封连接
真空室广泛用于半导体制造工艺，包括关键沉积和蚀刻阶段。原子层沉积 (ALD) 等较新工艺需要比化学气相沉积 (CVD) 或物理气相沉积 (PVD) 技术更高的真空度。然而，众所周知，真空室很难在高性能水平上建造、运营和维护。
为了不污染工艺，真空室中使用的元件和材料必须具有低释气性。进出腔室的电气连接必须正确密封，以防止真空度下降。随着工艺需求的增加和真空要求的提高，原始设备制造商 (OEM) 不断控制所有这些因素，这也是许多人倾向于采用工业 4.0 支持的智能制造功能的另一个原因。
连接到真空室
在腔室中获得可靠的电气连接，同时节省真空量并减少泄漏。
真空电线
通过低释气线显著降低污染真空和半导体晶圆的机会。
